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PVD400磁控濺射系統
編號:2
類別:磁控濺射鍍膜系統
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    產品優勢:

    1、極限真空度,可達6.6X10-5Pa;

    2、抽速快,抽氣20-30分鐘內可做實驗;

    3、真空室內外表面經過特殊電化學拋光處理,可持久保持潔凈真空狀態;

    4、新型磁控濺射靶,提高靶材利用率及膜厚均勻性;

    5、新型樣品臺,旋轉、升降更順暢,模塊化結構設計;

    6、新型質量流量控制器,高精度控制進氣;

    7、脂潤滑分子泵抽速快,縮短抽氣時間,并提供潔凈真空環境;

    8、 整機一體式設計結構,美觀大方,并采用觸摸屏集成自動控制方式,操作更集中、更便捷。

    1、極限真空度:優于6.6X10-5Pa; 

    2、抽速:30分鐘可達到6.6X10-4Pa;

    3、磁控濺射靶:2英寸x3套;

    4、直流濺射電源:500Wx2套;

    5、射頻濺射電源:500Wx1套;

    6、樣品尺寸:4英寸x1片;

    7、樣品溫度:600℃;

    8、脂潤滑分子泵:1套;

    9、無油渦旋干泵:1套;

    10、自動控制系統:1套;

    11、冷卻水路系統:1套。

    公司:中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司 

    地址:沈陽市渾南新區新源街1

    銷售電話:024-23826899、024-23826855

    售后電話:024-23826838

    傳真:024-23826828

    郵箱:sales@sky.ac.cn

    網址:www.643245.tw

    開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處

    賬號:2100 1394 6010 5958 1266

    納稅號:912101 0041 0581 2660

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