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EB900型高真空電子束蒸發薄膜沉積系統
編號:2
類別:電子束蒸發
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途
    廣泛用于半導體、LED生產線批量生產,可滿足鋁、鈦、鉻、鉬、釩、鎳、銀、銦等金屬,ITO等氧化物在基片上均勻沉積薄膜的各類工藝要求。

    設備組成
    系統主要由真空室、旋轉基片架、加熱系統、電子槍及電子槍電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成。立方整體外觀,適用于超凈間間壁隔離安裝。

    技術指標

    1、極限真空度:≤6.7×10-5 Pa (經烘烤除氣后);

    2、系統真空檢漏漏率:≤6.7×10-8 Pa.l/S;

    3、20分鐘可達到工作真空度6.7×10-4 Pa;

    4、蒸發速率:0.115Å/sec;

    5、膜厚均勻性:片內≤±1%,片間≤±1%;

    6、電子槍及電源:10KW,坩堝6x40cc;

    7、膜厚控制儀(單探頭):1套;

    8、拱形基片架:可同時放置204″基片;

    9、樣品加熱溫度:室溫~300°C;

    10、無油泵抽系統:1套;

    11、自動控制系統:1套;

    12、占地面積:1600×2700mm;開門后尺寸:3200×3700mm。

    公司:中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司 

    地址:沈陽市渾南新區新源街1

    銷售電話:024-23826899、024-23826855

    售后電話:024-23826838

    傳真:024-23826828

    郵箱:sales@sky.ac.cn

    網址:www.643245.tw

    開戶行:建行沈陽渾南新區產業園分理處

    賬號:2100 1394 6010 5958 1266

    納稅號:912101 0041 0581 2660

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